Bundesrecht konsolidiert: AEV Halbleiterbauelemente § 1, Fassung vom 03.01.2018

AEV Halbleiterbauelemente § 1

Begleitende Dokumente

Hauptdokument

Kurztitel

AEV Halbleiterbauelemente

Kundmachungsorgan

BGBl. II Nr. 213/2000

Typ

V

§/Artikel/Anlage

§ 1

Inkrafttretensdatum

18.07.2001

Außerkrafttretensdatum

Index

81/01 Wasserrechtsgesetz 1959

Text

Paragraph eins,
  1. Absatz einsBei der wasserrechtlichen Bewilligung einer Einleitung von Abwasser aus Betrieben oder Anlagen gemäß Absatz 2, in ein Fließgewässer oder in eine öffentliche Kanalisation sind die in Anlage A festgelegten Emissionsbegrenzungen vorzuschreiben.
  2. Absatz 2Absatz eins, gilt für Abwasser aus Betrieben oder Anlagen mit folgenden Tätigkeiten:
    1. Ziffer eins
      Herstellen von Halbleiterbauelementen (Gleichrichter, Transistoren, Dioden, Thyristoren, Triacs, integrierte Schaltungen und Ähnliche) einschließlich der zugehörigen Vor-, Zwischen- und Nachbehandlungen;
    2. Ziffer 2
      Herstellen von Solar- und Fotozellen einschließlich der zugehörigen Vor-, Zwischen- und Nachbehandlungen;
    3. Ziffer 3
      Herstellen von keramischen Bauteilen für elektronische Anwendungen;
    4. Ziffer 4
      Reinigen von Abluft und wässrigen Kondensaten aus Tätigkeiten der Ziffer eins bis 3.
  3. Absatz 3Absatz eins, gilt nicht für die Einleitung von
    1. Ziffer eins
      Abwasser aus Kühlsystemen und Dampferzeugern (Paragraph 4, Absatz 2, Ziffer 4 Punkt eins, AAEV);
    2. Ziffer 2
      Abwasser aus Laboratorien (Paragraph 4, Absatz 2, Ziffer 4 Punkt 3, AAEV);
    3. Ziffer 3
      Abwasser aus der Wasseraufbereitung (Paragraph 4, Absatz 2, Ziffer 4 Punkt 4, AAEV);
    4. Ziffer 4
      Abwasser aus der Herstellung von Leiterplatten (Paragraph 4, Absatz 2, Ziffer 6 Punkt 4, AAEV);
    5. Ziffer 5
      Abwasser aus der Herstellung von Grundstoffen für Halbleiterbauelemente (raw wafers);
    6. Ziffer 6
      Häuslichem Abwasser aus Betrieben gemäß Absatz 2,
  4. Absatz 4Soweit diese Verordnung keine von der AAEV abweichende Regelung enthält, gilt die AAEV ausgenommen Paragraph 4, Absatz 7, AAEV für Abwasser aus der Reinigung von Abluft, die in Tätigkeiten des Absatz 2, anfällt. Fällt im Zuge eines Herstellungsvorganges gemäß Absatz 2, Abwasser aus einem galvanischen Prozess an, so ist dieses Abwasser als Teilstrom im Sinne des Paragraph 4, Absatz 7, Ziffer eins, AAEV derart zu behandeln, dass für einen maßgeblichen gefährlichen Abwasserinhaltsstoff der Emissionswert entsprechend der Abwasseremissionsverordnung für den Herkunftsbereich Behandlung und Beschichtung metallischer Oberflächen (Paragraph 4, Absatz 2, Ziffer 6 Punkt 4, AAEV) vor der Vereinigung mit sonstigem (Ab)Wasser eingehalten wird.
  5. Absatz 5Sofern es bei einer rechtmäßig bestehenden Einleitung gemäß Absatz eins, für die Einhaltung der Emissionsbegrenzungen der Anlage A erforderlich ist, oder sofern bei einer beantragten Einleitung gemäß Absatz eins, die Einhaltung der Emissionsbegrenzungen der Anlage A nicht durch andere Maßnahmen gewährleistet ist, können unter anderem folgende die wasserwirtschaftlichen Verhältnisse von Betrieben oder Anlagen gemäß Absatz 2, betreffende Maßnahmen entweder bei alleinigem oder bei kombiniertem Einsatz in Betracht gezogen werden (Stand der Vermeidungs-, Rückhalte- und Reinigungstechnik):
    1. Ziffer eins
      Verminderung des Wasserverbrauches und Abwasseranfalles durch
      • Strichaufzählung
        Einsatz wassersparender Spültechniken (zB Mehrfachkaskaden, Tauchspritzspülen, Leitfähigkeitsweichen usw.),
      • Strichaufzählung
        Auftrennung der Spülwässer in für die Mehrfachverwendung geeignete und ungeeignete Teilströme mit Mehrfachverwendung der geeigneten Spülwässer nach Zwischenreinigung (zB durch Ionentausch, Membrantechnik und ähnlichem),
      • Strichaufzählung
        weitestgehende Kreislaufführung von Wasser aus der Abluftwäsche,
      • Strichaufzählung
        Weiterverwendung schwach belasteter Teilströme in anderen Bereichen (zB als Kühlwasser, Reinigungswasser, Waschwasser in der Abluftwäsche, in der Galvanik oder der Leiterplattenherstellung),
      • Strichaufzählung
        Einsatz von Speicherbecken zur Sammlung von Spritzverlusten, Reinigungswässern oder Leckagen,
      • Strichaufzählung
        Weiterverwenden verbrauchter Prozesslösungen (zB Säuren, organische Lösemittel);
    2. Ziffer 2
      vom Prozessabwasser gesonderte Erfassung und Behandlung von Retentat aus der Reinstwasseraufbereitung und Behandlung entsprechend der AEV Wasseraufbereitung (zB mittels Membranverfahren);
    3. Ziffer 3
      Verzicht auf den Einsatz von gasförmigen Halogenen, soweit dies auf Grund der angewandten Produktionsverfahren möglich ist;
      weitestgehender Verzicht auf den Einsatz halogenierter organischer Lösungsmittel, sofern die Gefahr besteht, dass diese mit Wasser in Kontakt kommen können;
    4. Ziffer 4
      Verzicht auf den Einsatz von Arbeits- oder Hilfsstoffen mit wassergefährdenden Eigenschaften, soweit dies auf Grund der eingesetzten Produktionsverfahren möglich ist; Beachtung der ökotoxikologischen Angaben in den Sicherheitsdatenblättern der eingesetzten Stoffe; weitestgehender Verzicht auf den Einsatz von Polyaminocarbonsäuren und deren Salzen;
    5. Ziffer 5
      bevorzugter Einsatz physikalischer oder physikalisch-chemischer Verfahren zur Zerstörung von Komplexbildnern; bei Einsatz chemischer Verfahren bevorzugte Anwendung von Ozon, Wasserstoffperoxid oder anderer Persauerstoffverbindungen;
      weitestgehender Verzicht auf den Einsatz von Chlor oder chlorabspaltenden Chemikalien;
    6. Ziffer 6
      gesonderte Erfassung und Reinigung arsen-, cadmium-, selen- und komplexbildnerhaltiger Abwasserteilströme;
    7. Ziffer 7
      Einsatz von Pufferbecken zur Abminderung von Abwassermengen- und Schmutzfrachtspitzen;
    8. Ziffer 8
      Einsatz physikalischer, physikalisch-chemischer oder chemischer Abwasserreinigungsverfahren für einzelne Teilströme (zB Oxidation/Reduktion, Fällung/Flockung, Extraktion, Membrantechnik, Elektrolyse) und für das Gesamtabwasser (zB Neutralisation, Sedimentation, Filtration, Fällung/Flockung, Ionentausch);
    9. Ziffer 9
      vom Abwasser gesonderte Erfassung und Verwertung der Rückstände aus der Produktion und Verarbeitung sowie der bei der Abwasserreinigung anfallenden Rückstände oder deren Entsorgung als Abfall (AWG, Bundesgesetzblatt Nr. 325 aus 1990,).

Schlagworte

Vorbehandlung, Zwischenbehandlung, Solarzelle, Vermeidungstechnik, Rückhaltetechnik, Arbeitsstoff, Abwassermengenspitzen

Zuletzt aktualisiert am

04.09.2017

Gesetzesnummer

20000780

Dokumentnummer

NOR40009146